半導体向け結晶シリコン再生
AI時代の半導体需要を支える、結晶シリコン再生の重要性
生成AI（人工知能）の爆発的な普及やデータセンターの急増により、最先端の半導体需要は世界中でかつてない高まりを見せています。半導体の基盤となる結晶シリコンの需要も逼迫する中、製造コストの削減と限られた貴重なシリコン資源をいかに循環させるかが、これからの半導体産業における最重要課題となっています。
弊社では、半導体向けシリコン再生で培った30年以上の確かな技術ノウハウを誇り、高度なクリーン環境と混酸エッチング設備を駆使し、物理的・化学的処理を最適に組み合わせることで、トップ＆テールや各種シリコン端材を再生洗浄します。
シリコン再生手順の流れ
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材料入荷
重量チェック、P.N抵抗値確認
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洗浄前処理
異物除去、研磨処理、熱処理、溶剤拭き取り
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エッチング処理
混酸エッチング テストピースによるエッチング量管理（クリーンルーム内）
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乾燥
低温乾燥（クリーンルーム内）
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外観検査
社内資格専門検査員による検査（クリーンルーム内）
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計量／梱包
PE2重袋密封（クリーンルーム内）
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出荷
シリコン洗浄主要設備
新規材料の再生洗浄方法の開発
最適のプロセス・設備を探求し 様々なスクラップ材の再生に取り組みます
●様々な新規スクラップ材料の再生お引き合いには、培った技術ノウハウをベースに積極的に開発テストに取り組みます。
●ビーカー試験・PILOT装置の製作および試験・各種分析。
●開発テストは内容・規模により有償とさせて頂く場合がございます。