ごあいさつ
当社は「新規事業の創造と企業化を支援する」ことを事業目的に掲げ、1993年6月に設立。以来、経営と商品開発のコンサルティングを主軸としながら新規事業の開発に努力して参りました。
1995年には世界的な半導体用結晶シリコンの供給不足から、各社は原料節約のため、シリコン端材品等の再利用を始めました。この再生ニーズを新規事業の機会と捉え、「半導体用結晶シリコンの再生事業」を開始し、後には「太陽光発電池用結晶シリコンの再生事業」も始め今日に至っています。
また新しい殺菌技術である二酸化塩素に関する研究を2002年にスタートし、2003年には温浴施設における衛生管理用途向けに「二酸化塩素殺菌事業」を立ち上げ、薬剤と装置を開発しレジオネラ問題の解決に貢献致しました。更に2013年に温浴施設での配管洗浄時間やコストの削減を目的とした洗浄剤の商品化を行い、現在では多くの施設様にてご評価を頂いております。
これからも様々な洗浄方法や洗浄剤の開発など新しい付加価値の創造に積極的に取り組んで参ります。
会社概要
| 商号 | 株式会社リアライズ |
|---|---|
| 所在地 | 〒107-0062 東京都港区南青山2-22-4・708 TEL:03-3470-8708 FAX:03-3470-8709 |
| 設立 | 1993年6月15日 |
| 資本金 | 1000万円 |
| 代表者 | 代表取締役 沼尻浩次 |
| 取引銀行 | みずほ銀行 外苑前支店 三井住友銀行 青山支店 |
| 事業所 | 長岡工場 草加工場 |
アクセス
掲載記事
(1998年8月27日)
(1998年9月16日)
発表論文
半導体基盤技術研究会発行 目次
特集：あるべき半導体産業資源回生 －シリコン関連－
シリコン屑の再利用 沼尻不二雄
［要旨］
半導体シリコン屑の再利用は、単結晶シリコンの再引 き上げ用の原料、および結晶系シリコンの太陽電池向け 用途が大部分を占める。それ以外はアルミ合金添加剤、
封止材、鉄鋼の脱酸素材に使用される。再利用できないシリコン屑は産業廃棄物として処分される。多結晶シリコンの1998年の世界生産は 16,000tと推定
されており、このうち15～20%(2,400～3,200t)が多結晶 シリコン太陽電池用原料に再利用されたと考えられる。太陽電池市場が拡大している中で、弊社では更に高付
加価値化した再利用技術の高度化に取り組んでいる。
環境の管理 2003年10月
二酸化塩素を用いた浴場施設のレジオネラ対策 赤間俊一
［要旨］
循環式浴槽を設置する浴場施設のレジオネラ対策を目的とした循環系（ろ過器、配管など）の生物膜の消毒について、実験室およびフィールドで二酸化塩素を用いた消毒効果を塩素系薬剤と比較確認した。その結果、二酸化塩素は塩素系薬剤よりも強い生物膜に対する消毒効果が認められ、二酸化塩素による1週間に1回の循環系消毒により、浴槽水中のレジオネラ属菌抑制に有効なことが確認された。しかしながら、塩素系薬剤同様、二酸化塩素消毒だけでは生物膜の完全な剥離除去は難しく、施設の維持管理にあたっては別途、物理的作用による洗浄を講じる必要がある。
2004年4月
二酸化塩素を用いた浴場施設のレジオネラ対策 赤間俊一
［要旨］
近年大規模事故の発生により社会問題化している浴場施設におけるレジオネラ感染については施設現場において対策の立ち遅れが指摘され、現状最も一般的な消毒方法である塩素処理での課題も多い。そこで本稿では塩素に替わる消毒方法として注目される二酸化塩素を用いた浴場施設のレジオネラ対策について使用方法および実施例を解説する。