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日刊工業新聞
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(1998年8月27日)
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(1998年9月16日)
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論文

ウルトラクリーンテクノロジーに論文を発表
ULTRA CLEAN TECHNOLOGY 第11巻第5号 1999年
半導体基盤技術研究会発行 目次

特集:あるべき半導体産業資源回生 -シリコン関連-

シリコン屑の再利用 沼尻不二雄
[要 旨]
 半導体シリコン屑の再利用は、単結晶シリコンの再引 き上げ用の原料、および結晶系シリコンの太陽電池向け 用途が大部分を占める。それ以外はアルミ合金添加剤、 封止材、鉄鋼の脱酸素材に使用される。再利用できないシリコン屑は産業廃棄物として処分される。多結晶シリコンの1998年の世界生産は 16,000tと推定 されており、このうち15~20%(2,400~3,200t)が多結晶 シリコン太陽電池用原料に再利用されたと考えられる。太陽電池市場が拡大している中で、弊社では更に高付 加価値化した再利用技術の高度化に取り組んでいる。
日本環境管理学会にて論文発表
環境の管理   2003年10月
二酸化塩素を用いた浴場施設のレジオネラ対策 赤間俊一
[要 旨]
 循環式浴槽を設置する浴場施設のレジオネラ対策を目的とした循環系(ろ過器、配管など)の生物膜の消毒について、実験室およびフィールドで二酸化塩素を用いた消毒効果を塩素系薬剤と比較確認した。その結果、二酸化塩素は塩素系薬剤よりも強い生物膜に対する消毒効果が認められ、二酸化塩素による1週間に1回の循環系消毒により、浴槽水中のレジオネラ属菌抑制に有効なことが確認された。しかしながら、塩素系薬剤同様、二酸化塩素消毒だけでは生物膜の完全な剥離除去は難しく、施設の維持管理にあたっては別途、物理的作用による洗浄を講じる必要がある。
設備と管理に論文発表
2004年4月
二酸化塩素を用いた浴場施設のレジオネラ対策 赤間俊一
[要 旨]
 近年大規模事故の発生により社会問題化している浴場施設におけるレジオネラ感染については施設現場において対策の立ち遅れが指摘され、現状最も一般的な消毒方法である塩素処理での課題も多い。そこで本稿では塩素に替わる消毒方法として注目される二酸化塩素を用いた浴場施設のレジオネラ対策について使用方法および実施例を解説する。